クオルテック---大幅に4日ぶり反発、Patentixと資本業務提携、次世代半導体材料で共同研究開発

*09:24JST <9165> クオルテック 1627 +213 大幅に4日ぶり反発。世界で初めてシリコンカーバイド上のルチル構造二酸化ゲルマニウム製膜に成功したPatentix（滋賀県草津市）と資本業務提携に関する合意書を締結すると発表している。二酸化ゲルマニウムは、現在主流の半導体材料に比べてコスト面などで優位性を持ち、次世代半導体材料として有力視されているという。
クオルテックはPATENTIXへ0.50億円を出資し、二酸化ゲルマニウム半導体などの共同研究開発を行う。

＜ST＞