Ｖテク反発、集束イオンビームフォトマスク修正装置を開発

　ブイ・テクノロジー<7717.T>が３日ぶりに反発している。きょう昼ごろ、集束イオンビームフォトマスク修正装置「Ｄｒａｃｏ（ドラコ）」の販売を開始したと発表しており、今後の業容拡大への期待が高まっているようだ。同製品は半導体をはじめ、高精細ＯＬＥＤディスプレーや大型ディスプレー用フォトマスクに対応している。

出所：MINKABU PRESS