ＧＳＩクレオスが大幅続伸、パワー半導体用ＳｉＣ加工に参入と報じられる

　ＧＳＩクレオス<8101.T>が大幅続伸。きょう付の日刊工業新聞で、ウエハー加工会社の仏ノヴァシック（ルブルジェドゥラック市）と日本国内向け販売代理店契約を結び、パワー半導体用の炭化ケイ素（ＳｉＣ）の加工サービスに乗り出したと報じられたことを材料視。記事によると、ＳｉＣの研磨（ポリッシング）、再生、薄化、平坦化、気相成長（エピタキシャル）をそれぞれ提案するとしており、ＧＳＩクレオスが営業して注文を受け、ノヴァシックが加工を請け負うという。結晶欠陥の低減や歩留まりなどの改善が期待できるとあることから、需要の広がりによる業績への貢献が期待されている。

ＧＳＩクレオスの株価は９時４３分現在１４４円（△７円）


出所：株経通信（株式会社みんかぶ）