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ブイ・テクノロジーのニュース
Ｖテク反発、集束イオンビームフォトマスク修正装置を開発
ブイ・テクノロジー<7717.T>が３日ぶりに反発している。きょう昼ごろ、集束イオンビームフォトマスク修正装置「Ｄｒａｃｏ（ドラコ）」の販売を開始したと発表しており、今後の業容拡大への期待が高まっているようだ。同製品は半導体をはじめ、高精細ＯＬＥＤディスプレーや大型ディスプレー用フォトマスクに対応している。
出所：MINKABU PRESS
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