オキサイドが３連騰で上放れ鮮明、レーザー技術やパワー半導体分野の展開力で脚光

　オキサイド<6521.T>が大幅高で３連騰、一時５７０円高と値を飛ばし８７００円台に歩を進めた。６月中旬以降は次第高の展開で７７００円近辺を横に走る２５日移動平均線からの上放れを鮮明としている。レーザー光源や光学系デバイス、計測装置などの製造販売を手掛けるが、半導体材料の開発にも注力している。

　今後加速的な市場拡大が見込まれる次世代パワー半導体では炭化ケイ素（ＳｉＣ）製デバイス、窒化ガリウム（ＧａＮ）製デバイス、酸化ガリウム（Ｇａ２Ｏ３）製デバイスなどが注目されており、株式市場でもこれらの開発製造に関連する銘柄に光が当たっている。そうしたなか、同社は前週１８日にＧａＮ薄膜単結晶の成長に適した新材料基板のサンプル出荷開始を発表、これが新たな株高材料となっている。同社は過去に経済産業省の「グローバルニッチトップ企業１００選」にも選出されるなど、ニッチ分野での高い技術力に評価が高く、半導体の微細化や量子コンピューティング分野でもキーテクノロジーと目されているレーザー技術関連株の一角として人気化素地が高い。

出所：MINKABU PRESS