ステラケミファは底入れの兆し、米中ハイテク摩擦でフッ素化合物に思惑

　ステラ　ケミファ<4109.T>が続伸、マドを開けて５日移動平均線を上回り目先底入れの兆しをみせている。半導体洗浄用などに使うフッ素化合物の大手で圧倒的な国内シェアを誇るが、足もとの業績は好調ながら、半導体市況の先行き不透明感から株価は下げ基調を強めていた。しかし、米国と中国の間でハイテク製品を巡る摩擦が強まるなか、「その核となる半導体製造で高純度のフッ素系化合物の争奪戦に発展するとの思惑」（市場関係者）を指摘する声もあり、同社の株価を刺激する可能性もある。

出所：minkabuPRESS