インテル、米国の製造施設へ70億ドルを投資する計画を発表 米Intel（インテル）社長 兼CEOのポール・オッテリーニ氏は現地時間10日、米国の最新製造施設の建設に今後2年間で70億ドルを投資すると発表した。この投資は、32nm（ナノメートル）プロセス製造技術の展開に当てられるもので、新規製造プロセスへの投資としては、インテル史上、過去最大級のものとのこと。この技術により製造される最初の製品は、「West... ...続きを読む