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湯之上隆氏、国会で日本の半導体、希望の光を語る（2021年6月1日衆議院・科学技術特別委員会） - 令和の未来カエルのブログ
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2021年6月1日衆議院・科学技術特別委員会で、
湯之上隆氏、日本の半導体、希望の光などを語った内容が
紹介されているブログ記事です。
半導体デバイスは復活はないが、材料,製造装置は日本の希望の光だ、強いものをより強くしろ！
■日本半導体、デバイスについては挽回不能
■日本企業が強い半導体材料
■日本企業が強い半導体製造装置
■アジアでの日本での役割
■TSMCにも強い日本企業
■希望の光、強いものを強くしろ
といった内容です。
▼一部抜粋---------
まず、半導体を作るには様々な製造装置が必要です。十数種類あります。この中で、全部とは言いません、五種類から七種類ぐらいは市場を独占している装置があります。ここは非常に強力です。
それから、日本の装置でなくても、アメリカ製であってもヨーロッパ製であっても、それぞれの装置が三千点から五千点の部品で構成されています、その部品の六割から八割が日本製なんです。知られていない中小零細企業がここに何千社といるんです。これがひょっとしたら日本の競争力かもしれない。
さらには、もう一つある。ウェハーとかレジストとかスラリーとか薬液とか、半導体材料というもの、これはもっと強力なんです。これを具体的に示したいと思います。
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湯之上氏のプレゼン資料に記載のあった企業とその銘柄コードを参考にまで記載します。
■半導体素材
ウエハ：信越化学4063 SUMCO3436
レジスト：
ArF用 JSR4185 信越化学 TOK（東京応化）4186
EUV用 信越化学4063 JSR4185 TOK4186
CMPスラリ
酸化膜 フジミインコーポレーテッド5384
STI用 昭和電工4004 AGC5201
Cu用 富士フィルム4901
Cuバリア用 富士フィルム4901 昭和電工4004
高純度薬液 ：
CMP後洗浄液 富士フィルム4901 三菱ケミカル4188 関東化学 非上場
過酸化水素 三菱ガス化学4182 関東化学 非上場
アンモニア水素 三菱ガス化学
塩酸 三菱ケミカル4188 関東化学 非上場
硫酸 関東化学 非上場 三菱ケミカル4188
フッ化水素酸 ステラケミファ4109 ダイキン6367 森田化学 非上場
ポリマー除去液 TOK（東京応化）4186
イソプロピルアルコール トクヤマ4043 関東化学 非上場
4063,3436,4185,4186,5384,5201,4901,4109,4043,6367,4188,4182,
