湯之上隆氏が語る日本半導体、希望の光

[令和の未来カエルさん]

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https://chanmabo.hatenablog.com/entry/2021/09/11/142525

湯之上隆氏、国会で日本の半導体、希望の光を語る（2021年6月1日衆議院・科学技術特別委員会） - 令和の未来カエルのブログ 

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2021年6月1日衆議院・科学技術特別委員会で、

湯之上隆氏、日本の半導体、希望の光などを語った内容が

紹介されているブログ記事です。

半導体デバイスは復活はないが、材料,製造装置は日本の希望の光だ、強いものをより強くしろ！

■日本半導体、デバイスについては挽回不能

■日本企業が強い半導体材料

■日本企業が強い半導体製造装置

■アジアでの日本での役割

■TSMCにも強い日本企業

■希望の光、強いものを強くしろ

といった内容です。

▼一部抜粋---------

　まず、半導体を作るには様々な製造装置が必要です。十数種類あります。この中で、全部とは言いません、五種類から七種類ぐらいは市場を独占している装置があります。ここは非常に強力です。

　それから、日本の装置でなくても、アメリカ製であってもヨーロッパ製であっても、それぞれの装置が三千点から五千点の部品で構成されています、その部品の六割から八割が日本製なんです。知られていない中小零細企業がここに何千社といるんです。これがひょっとしたら日本の競争力かもしれない。

　さらには、もう一つある。ウェハーとかレジストとかスラリーとか薬液とか、半導体材料というもの、これはもっと強力なんです。これを具体的に示したいと思います。

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湯之上氏のプレゼン資料に記載のあった企業とその銘柄コードを参考にまで記載します。

■半導体素材

ウエハ：信越化学4063 SUMCO3436

レジスト：

ArF用 JSR4185　信越化学　TOK（東京応化）4186

EUV用 信越化学4063　JSR4185　TOK4186

CMPスラリ　

酸化膜　フジミインコーポレーテッド5384

STI用　昭和電工4004　AGC5201

Cu用　富士フィルム4901

Cuバリア用　富士フィルム4901　昭和電工4004

高純度薬液　：

CMP後洗浄液　富士フィルム4901　三菱ケミカル4188 関東化学 非上場

過酸化水素　三菱ガス化学4182　関東化学 非上場

アンモニア水素　三菱ガス化学　

塩酸　三菱ケミカル4188　関東化学 非上場

硫酸　関東化学 非上場　三菱ケミカル4188

フッ化水素酸　ステラケミファ4109　ダイキン6367　森田化学 非上場

ポリマー除去液　TOK（東京応化）4186

イソプロピルアルコール　トクヤマ4043　関東化学 非上場

4063,3436,4185,4186,5384,5201,4901,4109,4043,6367,4188,4182,