オキサイドが反発、溶液成長法による６インチｐ型ＳｉＣウエハーの試作に成功

　オキサイド<6521.T>が反発している。１６日の取引終了後、子会社オキサイドパワークリスタルが、名古屋大学で長年培われてきた「溶液成長法」を基盤技術として、６インチｐ型ＳｉＣウエハーの試作に成功したと発表しており、好材料視されている。

　「溶液成長法」とは、溶媒に溶け込んでいる溶質を種結晶上に析出させることで結晶成長させる方法で、従来の昇華法に比べ、原理的に欠陥なく高品質な単結晶育成が可能という。今回の開発は、オキサイドパワークリスタル、マイポックス（栃木県鹿沼市）、ＵＪ－Ｃｒｙｓｔａｌ（名古屋市千種区）、アイクリスタル（名古屋市千種区）、産業技術総合研究所先進パワーエレクトロニクス研究センター、並びに名古屋大学未来材料・システム研究所の開発グループによるもので、同ウエハーは１２月１７日～１９日に東京ビッグサイト（東京都江東区）で開催される半導体製造技術の展示会「ＳＥＭＩＣＯＮ　Ｊａｐａｎ　２０２５」で、国内で初めて公開展示される。

出所：MINKABU PRESS